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理光投影机亮相谭平个展    超短焦完美呈现新艺术 彩色打印机租赁

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理光投影机亮相谭平个展    超短焦完美呈现新艺术

2012年12月07日

(2012年12月7日,北京讯)2012年12月7日-13日,中国最重要的国家美术馆——中国美术馆迎来了一场重量级的展览——《谭平个展:|劃》。这是首个进入中国美术馆主展厅的抽象艺术家展览,通过对中央美术学院副院长谭平在油画、版画领域的作品梳理,展现这位中国最著名的抽象艺术家的创作脉络。同时,此次展览也独创性地运用了互动影像等新媒体形式,来自全球领先的数字办公解决方案和文档管理服务提供商――理光的超短焦投影机以卓越科技完美诠释了当代新兴艺术的魅力。

     本次个展上,谭平以艺术的全球观念,运用抽象艺术语言的链接,创造了东方、西方不同文化在同一时空中的精彩聚汇。展览中最重要的作品《+40m》,正是运用了25台理光超短焦投影机PJ WX4130N/WX4130投射展示,艺术的诗意与科技的光芒交相辉映,勾起无限回响。新媒介的使用将抽象艺术创作带入了当代艺术的前端,也将改变传统的观看方式与展览形态。

谭平个展木刻作品:《+40m》谭平个展木刻作品:《+40m》

由25台理光超短焦投影机投射展示的艺术作品《+40m》,光影与艺术完美融合由25台理光超短焦投影机投射展示的艺术作品《+40m》,光影与艺术完美融合

     作为影像信息科技的领先企业,理光始终关注科技产品在艺术界的应用,旨在带领艺术爱好者、设计者、会展人领略数码投影科技的新境界。参加此次个展的理光PJ  WX4130N/WX4130投影机,是目前世界上最小、最轻及投射距离最短的超短焦投影机(*)。该机型每台仅重3公斤,采用了自由曲面镜及曲折光学系 统,可以收集更多的光线并减少反射次数,投射80英寸屏幕画面只需要不到25cm的距离,实现更精准高效的投影。行业内首创的垂直摆放设计,利于节省有限 空间,可以在一般投影机无法使用的小型空间中使用。凭借优秀内涵和杰出外形,该机型日前还获选了2012年度IDEA国际杰出设计大奖。

     当代艺术家谭平表示:“在当代艺术中,作品的呈现除去作品本身之外,展示设计成为一个越来越重要的组成部分。而随着图像时代的来临,观众对视觉需求逐渐增 强,传统的展示方式——纸媒展示已经不能满足展览的多元化需求,影像成为一个运用更加广泛以及有更多可能性的艺术媒介,参与到展示设计、乃至于艺术创作中 来。在展示作品创作过程的同时,也成为展览视觉空间中不可替代的一部分。”

     随着新媒体艺术近年来的蓬勃发展,投影机已不仅仅是投影工具,还将成为作品自身的一部分。如何将影像科技与艺术进行完美融合,创造出更丰富的视觉感官体 验,不仅是艺术家们的目标,也是理光的追求。正如“imagine. change”(想象  改变)的品牌精髓所倡导的,理光坚信其未来在影像科技和信息沟通领域将有更加深远的拓展,为新媒体艺术开辟一个全新“视”界。

(*)该描述仅指在所有镜面反射型超短焦投影机范畴中。(截至2012 年11月理光调查数据。)

理光PJ-WX4130N投影机是目前世界上最小、最轻及投射距离最短的超短焦投影机理光PJ-WX4130N投影机是目前世界上最小、最轻及投射距离最短的超短焦投影机

中央美术学院讲师及交互设计实验室负责人彦风对理光超短焦投影机赞誉有加中央美术学院讲师及交互设计实验室负责人彦风对理光超短焦投影机赞誉有加

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